Электростатический патрон является ключевым компонентом, широко используемым в производстве полупроводников для зажима и позиционирования полупроводниковых чипов. В прошлом китайская полупроводниковая промышленность в основном полагалась на импорт электростатических зажимных патронов, что создавало большие неудобства для отечественного производства полупроводников.
Ввиду международных торговых трений и давления со стороны защиты технологий Китай решил увеличить локализацию электростатических патронов. Однако достичь этой цели непросто, столкнувшись с рядом технических и рыночных трудностей.
Технические прорывы втрудный
Как высокоточный компонент, электростатические патроны требуют чрезвычайно низкого коэффициента трения, стабильных механических свойств и высокоточной возможности позиционирования. Для реализации локализации китайские полупроводниковые предприятия активно проводят технические исследования.
После многих лет усилий отечественные предприятия добились некоторых прорывов. Они усовершенствовали процесс, оптимизировали соотношение материалов и разработали некоторые инновационные методы проектирования. Эти технологические достижения значительно улучшили производительность отечественных электростатических патронов.
Конструкция электростатического патрона
Обычный электростатический патрон, разница в том, что поверхность изоляционного слоя электростатического патрона выполнена из другого материала, темного нитрида алюминия, белого оксида алюминия, структура электростатического патрона разделена на следующие части:
- Изоляционный слой: используется для контакта с пластинами, как правило нитрид алюминия керамика, благодаря своей хорошей механической прочности, высокой термостойкости и теплопроводности.
- Выталкивающий штифт и воздушные отверстия He: Выталкивающий штифт используется для переноса пластины. Когда пластина попадает в травильную камеру, выталкивающий штифт поднимается, чтобы захватить пластину, а затем выталкивающий штифт опускается вниз, чтобы поместить пластину на поверхность электростатического патрона. Более того, выталкиватель обычно представляет собой полую конструкцию, и газ He пропускается через него для охлаждения пластин в то же время.
- Обратный поток гелия: используется для улучшения рассеивания тепла и обеспечения обратной связи по адсорбции пластины.
- Электростатические электроды: используются для создания электростатического поля для адсорбции пластин. Электроды обычно плоские и встроены или осаждены в изоляционные материалы. Обычно используемые материалы включают алюминий, медь и вольфрам, а также другие металлы с хорошей электропроводностью.
- Циркуляция охлаждающей воды и нагревательные электроды: в основном используются для общего контроля температуры электростатического держателя, нагревательных электродов и циркулирующей охлаждающей воды одновременно, чтобы можно было поддерживать стабильную температуру пластины.
Ключевым и сложным моментом электростатического зажима является контроль температуры.
Контроль температуры полупроводникового процесса на пластине имеет решающее значение для сухого травления, например, необходимо контролировать пластину в диапазоне от 100 °C до -70 °C при определенной температуре для поддержания определенных характеристик травления, и, следовательно, необходимо использовать статический держатель на пластине для нагрева или рассеивания тепла, чтобы точно контролировать температуру пластины.
С развитием нового поколения полупроводниковых технологий низкотемпературные процессы травления и осаждения обычно требуют, чтобы пластины достигали более низких температур, поэтому к характеристикам рассеивания тепла электростатического держателя предъявляются более высокие требования.
С технической точки зрения, помимо постепенного увеличения размера пластин, тенденция развития электростатического держателя в основном проявляется в необходимости улучшения контроля однородности температуры, то есть постепенного увеличения количества зон с контролируемой температурой.
До и после 2000 года количество зон зонального контроля температуры, как правило, составляло 2 зоны, с 2000 по 2005 год количество зон зонального контроля температуры, как правило, составляло 4 зоны, и на данном этапе было разработано и внедрено в практику более 100 видов электростатических зажимных устройств с различными температурными зонами.
Светлое будущее отечественных электростатических патронов
Хотя путь к локализации сталкивается с трудностями и вызовами, но отечественные полупроводниковые предприятия в локализации электростатических патронов достигли значительного прогресса. С непрерывным развитием технологий и улучшением бренда доля рынка отечественных электростатических патронов постепенно увеличивается. И, Китай как крупнейший в мире рынок полупроводников, спрос на электростатические патроны будет продолжать расти.
Локализация электростатических патронов является важной частью полупроводниковой промышленности Китая для достижения самоконтроля. Несмотря на то, что китайские полупроводниковые предприятия сталкиваются с техническими прорывами и рыночной конкуренцией, они активно продвигают локализацию процесса электростатических патронов. Считается, что со временем отечественные электростатические патроны станут более зрелыми и покажут сильную конкурентоспособность на рынке.
О компании Xiamen Juci Technology Co., Ltd.
Xiamen Juci Technology Co., Ltd. — это передовое высокотехнологичное предприятие, занимающееся исследованиями и разработками, производством и дистрибуцией высококачественной продукции. материалы из нитрида алюминия (AlN). Как ведущая в отрасли Производитель порошка AlN, мы поставляем высокопроизводительные решения в области материалов, адаптированные для передовых приложений в электронной, полупроводниковой и аэрокосмической промышленности. Наша приверженность совершенству в качестве продукции и обслуживании клиентов сделала нас надежным мировым партнером в области специализированных керамических материалов.
Контакт для СМИ:
Сямэнь Технология Juci Ко., Лтд.
Телефон: +86 592 7080230
Электронная почта: miki_huang@chinajuci.com
Веб-сайт: www.jucialnglobal.com